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  • CVD真空氣相沉積技術工藝原理膜或派（pài）瑞林鍍膜。是一種把含有構成薄膜元素的長鏈性高分子（zǐ）材料（派瑞林Parylene等）、單質氣體經過昇華、熱解後進入放置產品的真空反應室，借助空間氣（qì）...2025-10-12 08:52:09
  • CVD真空氣相沉積工藝應用       CVD（派瑞林Parylene真（zhēn）空鍍膜）廣泛用於航空航天、電路板、LED 、磁性材料、感（gǎn）測（cè）器、矽橡膠、密封件、醫療器械、珍（zhēn）貴文物等領域。派瑞林真空鍍膜後的電子產品...2025-10-12 08:52:09
  • 側式真空氣相鍍膜設備。工作時把含有構（gòu）成薄（báo）膜元素的化合物（wù）（長鏈性高分子材料，一（yī）般為派瑞林Parylene）、單質氣體（tǐ）經過昇華、熱解（jiě）後進入（rù）放置產品的真空反應室，借助空間氣相...2018-08-31 11:50:13
  • 緊湊型側式真空（kōng）氣相沉積（jī）設備。工作時把（bǎ）含有構成薄膜元素的（de）化合物（長鏈性高（gāo）分子材料，一般為派瑞林Parylene）、單（dān）質氣體經過昇華、熱解後進入放置產品的真空反應室，借助空（kōng）間氣相...2019-06-01 15:00:13
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