真空化學氣相（xiàng）沉積工藝（yì）(Chemical Vapor Deposition,英文簡稱CVD), 俗稱：真空氣相鍍膜，納米鍍膜或派瑞（ruì）林鍍膜。是一種把含有構成薄膜元素的長鏈性高分子材料（派瑞林Parylene等）、單質氣體經過昇華、熱解後進入放置產品的真空反應室（shì），借助空間（jiān）氣（qì）相化學反應並在產品表麵上沉積生成的0.1-100um薄膜塗層（céng）的工藝技（jì）術。薄膜（mó）塗層厚度均勻，緻（zhì）密無針孔、透明無（wú）應（yīng）力、不含助劑、不損傷（shāng）產品、有優異的電絕緣性（xìng）和防護性，是當代最有效的防（fáng）潮、防黴、防腐、防鹽（yán）霧（wù）塗層材料。     

CVD派瑞林真空氣相鍍膜流程

隨（suí）著時（shí）代的發展，電子產品技術的不斷革新。高新技術與智能化（huà）的（de）發展，精密的電子設備元（yuán）件需要適應各（gè）種惡劣的工作環境，達（dá）到工業對其更高的要求：高可（kě）靠，小型化，抗（kàng）幹擾等等。因此，電子零部件（jiàn）的環境適應性和防護力就成了重中之重。

LPMS為（wéi）適應現有市場需求, 通過開發（fā）創新，成功的將派瑞（ruì）林（lín）鍍膜技術（shù）運用到電子（zǐ）產品行業。我們在（zài）材料、工藝和設備方麵（miàn）的專有技（jì）術使我們能夠（gòu）為客戶帶來高質量的超薄與納米級保形塗層，其成就在行業得到認可。