CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
CVD真空氣相沉積(jī)設備
側式真(zhēn)空氣相鍍膜設(shè)備

LPMS CVD12

側式真空氣相鍍膜設備

  • 不鏽鋼真空反應罐,結構合理,堅固耐用;真空管路采用不(bú)鏽鋼連節,方便維護及保(bǎo)養。

  • 1.2米大(dà)直徑真(zhēn)空反應(yīng)罐,單次鍍膜數(shù)量多, 能滿足大(dà)型工件的鍍膜需求。

  • 側開式門設計(jì)便於(yú)取放產品與腔體清潔(jié)等維護作業。

  • 反應罐內置轉盤機構(gòu)使產品(pǐn)在鍍膜過程中(zhōng)轉動,鍍層更均勻。

  • 使用數位LED真空(kōng)計顯示工作真空度。

  • 操作簡易,可依實際需求變換自動 /手動操作模式(shì)。

  • 紅外線加熱圈,加溫速度快。

  • 采(cǎi)用高精度溫控裝置多段控溫,溫控精確。

  • 定(dìng)時加熱(rè)、超溫報警和自動停止(zhǐ)加熱等保護功能

  • 自診功能和各種故障報警。

運用範圍

       真空氣相沉積設備是一種用(yòng)於電子(zǐ)產品防水保護的鍍膜設(shè)備。工作時把含有構成薄膜元素的化合物(長鏈性高(gāo)分子材料,一般為派(pài)瑞(ruì)林Parylene)、單質(zhì)氣體經過(guò)升華、熱解後進入放置產品的真空反應(yīng)室,借助空間氣相化學(xué)反應, 在產(chǎn)品表麵上沉積(jī)生成0.1-100um的厚度均勻,無應力(lì)、優異的(de)電絕緣性和防護性、防潮、防黴、防腐、防鹽霧的薄膜塗層。 

       廣泛應用於:航空航天、電路板、LED 、磁(cí)性材料、傳感器、矽橡膠、密封件、醫療器械、珍貴文物等領域產品的防(fáng)水封裝與保護工藝中。



產品規格(gé)

設備總尺寸(cùn) ( 寬度(dù) , 深度 , 高度 ) / 重量

3000 mm x 1420 mm x 1620mm

反應罐體外徑

ø1210 mm x1240 mm

反應罐(guàn)罐(guàn)口尺寸

890 mm x1200 mm

輸入電壓

三(sān)相 380 VAC / 50 Hz

設備(bèi)最大功率

15 Kw

溫控分區

6

分解爐溫控(kòng)範圍

室溫至700℃

升華爐溫(wēn)控範圍

室溫到150℃

原料門溫控範圍

室溫到250℃

製冷壓縮機功率

1000 W

製冷量

887 W

最低製冷溫度

-90℃

真空泵型號(hào)

2RH 090C

真空泵抽氣(qì)速率

90 m³

最大真空壓力(lì)

≤ 5 Pa

真空泵電機功率

3.7 KW (三相380VAC)

真空泵電機轉速

1440 R/Min

控製(zhì)係統

10 ”人機界麵,PLC 控製


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