CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
CVD真空氣相沉積設備
緊湊型側式真空氣相沉積設備

LPMS CVD05

緊湊型(xíng)側式真空氣相沉積設備

  • 直徑0.5米不鏽鋼真空反應罐,堅固耐用,鍍膜速度快。

  • 機台一體式設計,結構緊湊,占地小。

  • 真(zhēn)空管路采用不鏽鋼連節(jiē),方便(biàn)維護及保養。

  • 側開式門設計便於取放產品與腔體清潔等維護作(zuò)業。

  • 反應罐內置轉盤機構使產品在鍍(dù)膜過程(chéng)中勻速旋轉,鍍層更均(jun1)勻。

  • 使(shǐ)用數位LED真空計顯示工作狀況時的真空(kōng)度。

  • 操作簡易,可依實際需求變換自動 /手動操作模式。

  • 紅外線加熱圈,加溫速度(dù)快。

  • 采用(yòng)高(gāo)精度溫控裝置多段控溫(wēn),溫控精確。

  • 定時加熱、超溫報(bào)警和自動停止加熱等(děng)保護功能

  • 自診功能和各種故障報警。

  • 選配遠(yuǎn)程控(kòng)製(zhì)和手機APP功能



標(biāo)簽:   派瑞林Parylene

運用範圍

 真空氣相沉積設備是(shì)一種(zhǒng)用於電子(zǐ)產品防水保護的鍍膜設備(bèi)。工作時把含有構成薄膜元(yuán)素的化合(hé)物(wù)(長鏈(liàn)性高分子材料,一般為派瑞林Parylene)、單質(zhì)氣體經過升華、熱解後(hòu)進入放置產品的真空反(fǎn)應室,借助空間氣相化學反應, 在產品表麵(miàn)上沉積生成0.1-100um厚度均(jun1)勻,無應力、優(yōu)異的電(diàn)絕緣性和防護性防(fáng)潮、防黴、防腐(fǔ)、防(fáng)鹽霧薄膜(mó)塗層。

廣泛應(yīng)用於:航(háng)空航(háng)、電路板(bǎn)、LED 、磁性材料、傳感(gǎn)器、矽橡膠、密封件、醫療器(qì)械(xiè)、珍貴文物等領域產品(pǐn)的防水(shuǐ)封裝與保護工藝中(zhōng)

  



產品(pǐn)規格

設備總尺寸(cùn) ( 寬(kuān)度(dù) , 深度 , 高(gāo)度 )

1170 mm x 1860 mm x 1970mm

反應罐體內尺(chǐ)寸

Ø500 mm x 600 mm

反應罐罐口尺寸

454 mm x 600 mm

輸入電壓

三相(xiàng)380 VAC / 50 Hz

設備最大功(gōng)率

15 Kw

溫(wēn)控分區

6

分解爐溫控(kòng)範圍

室溫至700℃

升華爐溫控(kòng)範圍

室溫到(dào)150℃

原料門溫控範圍(wéi)

室溫到(dào)250℃

製冷壓縮機(jī)功率(lǜ)

1000 W

製冷量

887 W

最低製冷溫度

-90℃

真空泵型(xíng)號

2RH 030C

真空泵抽氣速率(lǜ)

30 m³

最大真空壓力

5 Pa

真空(kōng)泵電(diàn)機功率

1.1 KW (三相380VAC)

真空泵電機轉速

1420 R/Min

控製係統

10 ”人機界麵,PLC 控製

遠程控製和APP

選配



標簽:   派瑞林Parylene
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