CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空（kōng）氣相鍍膜
CVD真空氣相鍍膜
CVD真空氣相沉積技（jì）術工藝原理

真空化（huà）學氣（qì）相沉積工藝(Chemical Vapor Deposition,英文簡稱CVD), 俗稱：真空氣相（xiàng）鍍膜，納米鍍膜或派瑞林鍍膜。是一種把含有構成薄膜元素（sù）的長鏈性高分子材料（派瑞林Parylene等）、單質氣體（tǐ）經過升華、熱解後進入放置產品的真空反應室，借助空間氣相化學反應並（bìng）在產品（pǐn）表麵上沉積生成的0.1-100um薄膜塗層的工藝技術（shù）。薄（báo）膜（mó）塗層厚度均（jun1）勻，致密無（wú）針孔、透明無（wú）應（yīng）力、不含助劑、不損傷產品、有優異的電絕緣性和防護性，是當（dāng）代最有效的防潮、防黴、防腐（fǔ）、防鹽霧塗層材料。   

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CVD化學氣相沉積流程

隨（suí）著時代的發展，電子產品技術（shù）的不斷革新。高新技術（shù）與（yǔ）智能化的發展，精密的（de）電子設備元件需要適應各種惡劣的工作環境，達到工業對其更高的要求：高可靠，小型化（huà），抗（kàng）幹擾等等（děng）。因此（cǐ），電子零部件的環境適應性和防護力就成了重（chóng）中之重。

LPMS為適應現有市場需求, 通過開發創新，成功的將派瑞林鍍膜技術運用到（dào）電子產品行業。我們在（zài）材料、工藝和設備方麵的專有（yǒu）技術使（shǐ）我們能夠為客戶帶來高質量的超薄與納米級保形（xíng）塗層，其成就在行（háng）業得到認（rèn）可。

CVD真空氣（qì）相沉積工藝（yì）特點
             

  • 生物相容性（xìng）(用於各種植入物（wù）和其他醫療器械)，符合FDA（ClassVI）.符合美軍標MIL I-46058C。


  • 納（nà）米塗層滲透力強，360度無死角，可滲入SMD器件底部，全方位覆蓋PCB和電子（zǐ）元（yuán）件器，塗層完整、連續、無針孔、厚度均勻。


  • 具有高介電強度和低介電常數，超薄的絕緣層，能耐高電壓。


  • 室溫下生成納米鍍（dù）膜層，對塗覆敏（mǐn）感部件沒（méi）有熱應力。


  • 疏水薄膜，表麵能量低，良好的幹膜潤滑性。

             

  • 高度共形 - 可在尖角上覆膜並穿（chuān）透小毛孔，不會形成彎月麵，也不會聚集或遮擋精（jīng）細（xì）的圖形。


  • 塗層化學惰性（無反應（yīng）性），具（jù）有很高的（de）耐（nài）化學性（酸堿鹽，溶（róng）劑（jì））及極端的耐（nài）高低溫性（-60°C至200°C）


  • 透氣性（xìng）非常低，不含針孔，防潮防水性（可達IP68)。


  • 抗輻射，可（kě）用於航空（kōng）航天及γ射（shè）線和電子束滅菌。


  • 光學透明，無色。可用於上光學元件和照（zhào）明無件。

塗（tú）層可（kě）以（yǐ）承受極端高低（dī）溫
-60℃ 0℃ 60℃ 120℃ 180℃
-60～200℃
塗層可（kě）以承受極端高低溫（-60°C至200°C）
CVD真（zhēn）空氣相沉積工藝與三防（fáng）漆工藝對比

CVD派（pài）瑞林真空氣相（xiàng）沉積工藝鍍膜後（hòu）產品表麵化學純度高，鍍膜均勻，無小孔，無氣泡，不會（huì）脫落（luò），無熱應（yīng）力（lì）。

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我們能（néng）為您做什麽？

針對客戶具體項目，進（jìn）行項目評估、提供專業可行的CVD（派瑞林parylene）真空氣相沉積工藝解（jiě）決方案，以及納米塗層加工服務(打樣測試或大批量加工生產)。

根據客戶技（jì）術要求提供CVD真空（kōng）氣相沉積工藝所需的Parylene派瑞林粉體（tǐ），並給於專業的技術指導；

為有需要的客戶提供有針（zhēn）對（duì）性設計的（de）CVD（派（pài）瑞林parylene）真空氣相沉積工藝設備（bèi）（真空（kōng）氣相沉積鍍膜機、真空脫氣爐等相關設備）。

CVD真空氣相沉積工藝應用

       CVD派瑞林鍍膜廣泛用於航空航天、電路板、LED 、磁性材料、傳感器、矽（guī）橡膠、密（mì）封件（jiàn）、醫療器械、珍貴文（wén）物等領域。CVD派瑞林鍍膜後的電子產品（pǐn）具有極高的絕緣強度和耐高低溫(-60至200度)、抗腐蝕、耐酸堿、潤滑、防塵、防（fáng）潮、防（fáng）鏽、透明、防水(最（zuì）高可達IP68)、抗老化、生物兼容性（xìng）等。

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CVD真空氣相沉積設（shè）備
我們專業設計、製造和銷售各種類型和規格的（de）CVD真空鍍（dù）模設（shè）備，如真空（kōng）氣（qì）相沉積塗層機(派瑞林（lín）鍍膜機)、真空脫氣爐等。
CVD真空氣相沉（chén）積產品代加工

     LPMS擁用標準的真空氣相鍍膜車間和（hé）10多台（tái）CVD真（zhēn）空氣（qì）相沉（chén）積設（shè）備，可（kě）為客戶提供CVD真空氣相沉積（jī）納米級（jí）塗層的打樣測（cè）試或大批量生產代加工服務。同時也可提供包括產品的從（cóng）SMT表麵黏著、DIP插件、無鉛製（zhì）程、焊接加工、低壓（yā）注塑/點膠、真空氣相鍍膜、產（chǎn）品測試、成品包裝的全程代工代料服務，亦也可為客戶提供（gòng）新產品開發服（fú）務。

真空氣相沉積材料

      CVD真空氣相沉積工藝所使（shǐ）用的是一種保護性長鏈性高分子材料(中文名（míng）：派瑞林（lín）、聚對二甲苯、英文名：Parylene)，它可在真空下（xià）氣相沉積，活性分（fèn）子的良好穿透力能在元件內部、底部，周（zhōu）圍形成無針孔，並厚度均勻的透明絕緣塗（tú）層，給元件提（tí）供了（le）一個完整（zhěng）的優質防護塗層，抵禦（yù）酸堿、鹽霧、黴菌及各種腐蝕性氣件（jiàn）的侵害，因為所使（shǐ）用的不是液體，所以塗（tú）敷過（guò）程中不會聚集（jí），橋接式形成彎月麵。

      Parylene派瑞林高（gāo）分子材料根據分子結構可分為： N、C、 D、F、HT等多種 類（lèi）型。我們（men）可根據客戶技術要求與產品提（tí）供CVD真空氣相沉積工藝所需的Parylene派瑞林粉體與原料，並給於專業的技術指導。

派瑞林牌號

成膜特性

CAT

N粉（fěn）

CAT

C粉

CAT

D粉

CAT

F(VT4)粉

CAT

AF4(HT)粉

密（mì）度（gm/cc)

1.1

1.3

1.41

1.55

1.5

介電常數（1Mhz)

2.6

2.9

2.8

2.3

2.2

介電強度（V/Mil)

7000

5600

5500

5000

7000

最（zuì）低持續工（gōng）作溫度(空氣中）

-60°C

-60°C

-60°C

-60°C

-60°C

最高持（chí）續工作溫度(空氣中）

60°C

80°C

110°C

200°C

300°C

摩擦係數-動態（tài）

0.25

0.29

0.38

0.39

0.16

線性膨脹係數（shù）(ppm at 25°C)

69

35

38

45

34

吸水性（xìng）（24H後）

<% 0.1

<% 0.1

<% 0.1

<% 0.1

<% 0.1

水（shuǐ）蒸氣透過率(gm.mm)/m2.day)

0.6

0.08-0.1

0.1

0.25-0.32

0.2

氧氣穿透率（lǜ）(cc.mm)/(m2.day.atm)

16

3

12.0-13.5

16.8

25.3

視頻（pín）
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