真空化學氣相沉積工藝(Chemical Vapor Deposition,英文簡稱CVD), 俗稱：真空氣相鍍膜，納米鍍膜或派（pài）瑞（ruì）林鍍膜。是一（yī）種（zhǒng）把含有構成薄膜元素的長鏈性高（gāo）分子材料（派瑞林Parylene等）、單質（zhì）氣體經過升華、熱解（jiě）後（hòu）進入放置產品的真空反應室，借助空間氣相化（huà）學反（fǎn）應並在產品表麵上沉（chén）積生成的0.1-100um薄膜塗層的工藝（yì）技術。薄（báo）膜塗層厚度均勻，致密無針孔（kǒng）、透明無應（yīng）力、不含助劑、不損傷產品、有優異的電絕（jué）緣性和防護性，是（shì）當（dāng）代最有效的防潮、防黴、防腐、防鹽（yán）霧塗層材料。   

CVD化學（xué）氣（qì）相沉積（jī）流（liú）程

隨（suí）著時代的發展（zhǎn），電子產品技術的（de）不斷革新（xīn）。高新技術與智能化的發展，精密的（de）電（diàn）子設（shè）備元件需要適應各種惡劣的工作（zuò）環境（jìng），達到工業對其更高的要求：高可靠，小型化，抗幹擾等等。因此，電子零部件的環境適應性和防護力就成了重中之重。

LPMS為適應現有市場需求, 通（tōng）過開發創新，成功的（de）將派瑞林鍍膜技術（shù）運用到電子產（chǎn）品行業（yè）。我們在（zài）材料、工藝和設備方麵的專有技術使我們能夠為客戶帶（dài）來高（gāo）質量的超薄與納米級保形塗層，其成就在行（háng）業得（dé）到認可。